研磨液自动供液系统-CSE

设备型号

-CDS-N2601

设计基准

1.供液系统（Chemical Dispense System System）简称：CDS

2. CDS 将设置于化学房内：酸碱溶液CDS 系统要求放置防腐性的化学房；

3. 设备材质说明(酸碱类):酸碱溶液CDS外构采以WPP 10T 板材，内部管路及组件采PFA 451 HP 材质；

4. 系统为采以化学原液 双桶/单桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式运送到制程使用点；

5. 过滤器：配有10” PFA材质过滤器外壳；

6. 供液泵：每种化学液体配有两台或者一台 PTFE材质的进口隔膜泵；

7. Empty Sensor & Level Sensor：

酸碱类采用一般型静电容近接开关；

8. 所有化学品柜、歧管箱及阀箱均提供泄漏侦测器与警报功能。

CDS系统设备规格

1. 系统主要功能概述

设备主要功能：每种化学液体配两个桶（自动切换）、配两台泵（一用一备）、带过滤器；

系统控制单元：配带OMRON 8”彩色触摸屏，OMRON品牌PLC系统；

2. 操作模式：

CDS 系统皆有PLC 作Unit 内部流程控制，操作介面以流程方式执行，

兼具自动化与亲和力。

在自动模式情形下可自行达成供酸之功能。

在手动模式及维修模式底下可针对单一自动元件操作。

3. 设备结构：

（1）机架(Frame)：盘底SUS 方管50x50x1.5T 与机体以SUS 方管38x38x1.5T方管，全周焊架构而成，具有调整脚座。

（2）外观：酸碱类系统的外观以WPP 被覆。

（3） 箱体

(一) 箱体材质型式

供腐蚀性化学品用之材质为WPP/ 透明PVC。

(二) 阀体材质型式

.供腐蚀性化学品用之材质为PFA或PTFE。

(三) 泄漏侦测型式

采静电容式或光电式，须能耐酸硷之浸泡。

(四) 分流箱(VMB)必要设施说明

箱体外部须清楚标示其所输送化学品之名称与化学式。

4. 设备内部空间规划：

（1）配管区：管路流程整齐清楚，操作方便，具有防止喷溅及承接并排放泄漏功能。

（2）电控区：密封，可防止酸气侵蚀电控元件。

（3）取样区：取样方便具有防止酸液喷溅及排放泄漏功能。

（4）桶槽区：方便更换桶槽，并有链条防止桶槽滑动，有正压及排气功能，保持区域内之洁净度，下方有排放泄漏功能。

5. 电控系统︰

（1）空间规划︰与酸气隔离的独立空间并有N2 Purge 功能，从后方有宽大维修空间。

（2）重要元件︰

PLC: OMRON

GP: 10” OMRON Touch

Empty Sensor & Level Sensor:采用静电容近接开关

6. 附属装置:

（1）排气装置︰每一个Unit 皆配备排气装置

（2）每一个Unit 皆配备一组DIW GUN.

7. 安全保护装置:

（1）漏电断电断路保护装置

（2）机台底部漏液检知装置

（3）电控箱正压装置

（4）E.M.O.装置

8. 适用条件:

所有设备均应满足以下条件;

装置场所: 室内。

标高: 海平面1000 公尺以下。

环境温度: 30℃，0℃，平均30℃。

相对湿度: 90 ﹪。

设备制造商

南通华林科纳半导体设备有限公司 ；